Коваль, Николай Николаевич
Зам. директора по научной работе, Доктор технических наук
Институт сильноточной электроники СО РАН
http://www.hcei.tsc.ru
Россия, 634055, Томск, пр. Академический, 2/3
Телефон: +7(382-2) 49-15-44,
Факс: +7(382-2) 49-24-10
Список докладов
- Островерхов Е.В.*, Ахмадеев Ю.Х.*, Денисов В.В.*, Денисова Ю.А.*, Петрикова Е.А.*, Коваль Н.Н.*, Щанин П.М.*
Азотирование титановых сплавов в несамостоятельном тлеющем разряде с титановым полым катодом большой площади
*Институт сильноточной электроники СО РАН (Томск), Россия
- Воробьёв М.С.*, Коваль Н.Н.**, Сулакшин С.А.*
Об электрической прочности высоковольтного ускоряющего промежутка в широкоапертурном источнике электронов с сетчатым плазменным катодом
*Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук (Томск
), Россия
**Институт сильноточной электроники СО РАН (Томск), Россия
- Денисов В.В.*, Островерхов Е.В.*, Лопатин И.В.*, Ковальский С.С.*, Коваль Н.Н.*, Щанин П.М.*
Особенности импульсного режима горения несамостоятельного тлеющего разряда с полым катодом большой площади низкого давления
*Институт сильноточной электроники СО РАН (Томск), Россия
- Девятков В.Н.*, Коваль Н.Н.**
Плазменный сеточный катод на основе контрагированного дугового разряда низкого давления в неоднородном магнитном поле
*Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук (Томск
), Россия
**Институт сильноточной электроники СО РАН (Томск), Россия
- Ковальский С.С.*, Москвин П.В.*, Коваль Н.Н.*
Система зондовой диагностики катодной плазмы импульсных плазменных источников электронов
*Институт сильноточной электроники СО РАН (Томск), Россия
- Тересов А.Д.*, Коваль Н.Н.*, Иванов Ю.Ф.*, Петрикова Е.А.*, Крысина О.В.*
Финишная обработка поверхности металлических изделий, полученных методами аддитивного производства
*Институт сильноточной электроники СО РАН (Томск), Россия
- Коваль Н.Н.*
Электронно-ионно-плазменное оборудование и процессы для инжиниринга поверхности с использованием однородной плазмы разрядов низкого давления
*Институт сильноточной электроники СО РАН (Томск), Россия
К списку участников